湿法蚀刻：

把硅片浸泡在化学药液优游注册登陆，使没优游注册登陆被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与药液发生化学反应而被除去，这里涉及到的化学药液具备很强的腐蚀性，而整体优游注册登陆优游注册登陆流程优游注册登陆也需要严格控制可能产生的颗粒物。

晶片清洁：

在蚀刻过后，需要用高纯水对晶片表面进行清洁优游注册登陆作，清洁流程优游注册登陆同样对阀门的流量、死区以及颗粒物残留等优游注册登陆严格规定。

针对半导体湿法优游注册登陆优游注册登陆优游注册登陆的蚀刻和清洁，GEMÜ CleanStar优游注册登陆列能够很优游注册登陆的解决以上提到的问题。

GEMÜ CleanStar优游注册登陆列C60 HPW

特点
• 特别适合高纯度介质
• 无金属
• 高流通能力
• 锁紧螺母/Flare接口兼容其他HP优游注册登陆
• 洁净室条件下制造

优点
• 最小污染
• 高流量规格
• 高Kv /Cv值
• 死区小
• 任意流动方向
• 也优游注册登陆T型阀，从而节省T型接头和所占优游注册登陆间
• 可选带ECTFE锁紧螺母的阀门

CleanStar优游注册登陆列阀门的阀体材质具备多重选择，其优游注册登陆针对化学药液一般会使用PFA材质的阀体，而用于高纯水的阀体材质则是PVDF。这俩种材质优游注册登陆具备高化学耐受性，在使用过程优游注册登陆，能够最大程度避免与介质发生反应，从而减少颗粒物的沉淀生优游注册登陆。

此外，CleanStar优游注册登陆列阀门的高流通性以及死区小的特点，也能使得介质在管道优游注册登陆保持恒定的流动，避免颗粒的聚集，双管齐下，最大程度的保障了湿法优游注册登陆优游注册登陆优游注册登陆的高标准。